จีน การเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ ผู้ผลิต, ผู้จำหน่าย, โรงงาน

VeTek Semiconductor เชี่ยวชาญในการผลิตผลิตภัณฑ์เคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์บริสุทธิ์พิเศษ สารเคลือบเหล่านี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อใช้กับกราไฟท์บริสุทธิ์ เซรามิก และส่วนประกอบโลหะทนไฟ

การเคลือบที่มีความบริสุทธิ์สูงของเรามีเป้าหมายหลักเพื่อใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ ทำหน้าที่เป็นชั้นป้องกันสำหรับพาหะเวเฟอร์ ตัวรับ และองค์ประกอบความร้อน ปกป้องจากสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อนและเกิดปฏิกิริยาที่พบในกระบวนการ เช่น MOCVD และ EPI กระบวนการเหล่านี้เป็นส่วนสำคัญในการประมวลผลเวเฟอร์และการผลิตอุปกรณ์ นอกจากนี้ การเคลือบของเรายังเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานในเตาสุญญากาศและการทำความร้อนตัวอย่าง ซึ่งต้องเผชิญกับสภาพแวดล้อมที่เป็นสุญญากาศ ปฏิกิริยา และออกซิเจนสูง

ที่ VeTek Semiconductor เรานำเสนอโซลูชันที่ครอบคลุมพร้อมความสามารถของร้านขายเครื่องจักรขั้นสูงของเรา ซึ่งช่วยให้เราสามารถผลิตส่วนประกอบพื้นฐานโดยใช้กราไฟท์ เซรามิก หรือโลหะทนไฟ และใช้การเคลือบเซรามิก SiC หรือ TaC ภายในบริษัทได้ นอกจากนี้เรายังให้บริการเคลือบชิ้นส่วนที่ลูกค้าจัดหามา เพื่อให้มั่นใจว่ามีความยืดหยุ่นในการตอบสนองความต้องการที่หลากหลาย

ผลิตภัณฑ์เคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ของเราถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายใน Si epitaxy, SiC epitaxy, ระบบ MOCVD, กระบวนการ RTP/RTA, กระบวนการแกะสลัก, กระบวนการแกะสลัก ICP/PSS, กระบวนการของ LED ประเภทต่างๆ รวมถึง LED สีน้ำเงินและสีเขียว, UV LED และ Deep-UV LED ฯลฯ ซึ่งปรับให้เข้ากับอุปกรณ์จาก LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI และอื่นๆ

ชิ้นส่วนเครื่องปฏิกรณ์ที่เราสามารถทำได้:

การเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์มีข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์หลายประการ:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

พารามิเตอร์การเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ VeTek Semiconductor:

คุณสมบัติทางกายภาพพื้นฐานของการเคลือบ CVD SiC
คุณสมบัติ	ค่าทั่วไป
โครงสร้างคริสตัล	โพลีคริสตัลไลน์เฟส FCC β ส่วนใหญ่เน้น (111)
ความหนาแน่น	3.21 ก./ซม.³
ความแข็ง	ความแข็ง 2,500 วิกเกอร์ส (โหลด 500 กรัม)
เกรน SiZe	2~10ไมโครเมตร
ความบริสุทธิ์ของสารเคมี	99.99995%
ความจุความร้อน	640 เจ·กก.-1·K-1
อุณหภูมิระเหิด	2,700 ℃
ความแข็งแรงของแรงดัดงอ	415 MPa RT 4 จุด
โมดูลัสของยัง	430 Gpa 4pt โค้งงอ 1300 ℃
การนำความร้อน	300W·m-1·K-1
การขยายความร้อน (CTE)	4.5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

ตัวสะสมการเคลือบ SiC ด้านบน

ยินดีต้อนรับสู่ VeTek Semiconductor ผู้ผลิตการเคลือบ CVD SiC ที่เชื่อถือได้ของคุณ เรามีความภาคภูมิใจในการเสนอ Aixtron SiC Coating Collector Top ซึ่งได้รับการออกแบบอย่างเชี่ยวชาญโดยใช้กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูง และนำเสนอการเคลือบ CVD SiC ที่ล้ำสมัยโดยมีสิ่งเจือปนต่ำกว่า 5ppm โปรดอย่าลังเลที่จะติดต่อเราหากมีคำถามหรือข้อสงสัย

อ่านเพิ่มเติม ส่งคำถาม

ด้านล่างของตัวสะสมการเคลือบ SiC

ด้วยความเชี่ยวชาญของเราในการผลิตการเคลือบ CVD SiC VeTek Semiconductor ภูมิใจเสนอ Aixtron SiC Coating Collector Bottom ก้นตัวสะสมการเคลือบ SiC เหล่านี้สร้างโดยใช้กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและเคลือบด้วย CVD SiC เพื่อให้มั่นใจว่ามีสิ่งเจือปนต่ำกว่า 5ppm โปรดติดต่อเราเพื่อขอข้อมูลเพิ่มเติมและสอบถามข้อมูล

อ่านเพิ่มเติม ส่งคำถาม

ส่วนฝาครอบเคลือบ SiC ด้านใน

ที่ VeTek Semiconductor เราเชี่ยวชาญในการวิจัย การพัฒนา และการทำให้เป็นอุตสาหกรรมของการเคลือบ CVD SiC และการเคลือบ CVD TaC ผลิตภัณฑ์ที่เป็นแบบอย่างอย่างหนึ่งคือส่วนฝาครอบเคลือบ SiC ส่วนด้านใน ซึ่งผ่านการประมวลผลอย่างกว้างขวางเพื่อให้ได้พื้นผิว CVD SiC ที่เคลือบอย่างหนาแน่นและมีความแม่นยำสูง การเคลือบนี้แสดงให้เห็นถึงความต้านทานต่ออุณหภูมิสูงเป็นพิเศษและให้การป้องกันการกัดกร่อนที่แข็งแกร่ง อย่าลังเลที่จะติดต่อเราเพื่อสอบถามข้อมูลใด ๆ

อ่านเพิ่มเติม ส่งคำถาม

ส่วนการเคลือบ SiC

Vetek Semiconductor ทุ่มเทให้กับการพัฒนาและการจำหน่ายการเคลือบ CVD SiC และการเคลือบ CVD TaC ตามภาพประกอบ กลุ่มการเคลือบ SiC ของเราผ่านการประมวลผลอย่างพิถีพิถัน ส่งผลให้ได้การเคลือบ CVD SiC ที่มีความหนาแน่นสูงและมีความแม่นยำเป็นพิเศษ มีความต้านทานต่ออุณหภูมิสูงได้อย่างน่าทึ่งและให้การป้องกันการกัดกร่อนที่แข็งแกร่ง เรายินดีต้อนรับคำถามของคุณ

อ่านเพิ่มเติม ส่งคำถาม

ตัวรับ MOCVD

Vetek Semiconductor มุ่งเน้นไปที่การวิจัยและพัฒนาและอุตสาหกรรมการเคลือบ CVD SiC และการเคลือบ CVD TaC ยกตัวอย่าง MOCVD Susceptor ผลิตภัณฑ์ได้รับการประมวลผลสูงด้วยการเคลือบ CVD SIC ที่มีความหนาแน่นสูง มีความทนทานต่ออุณหภูมิสูง และทนทานต่อการกัดกร่อนสูง ยินดีต้อนรับการสอบถามเรา

อ่านเพิ่มเติม ส่งคำถาม

แหวนความร้อนล่วงหน้า

VeTek Semiconductor เป็นผู้ริเริ่มของผู้ผลิตการเคลือบ SiC ในประเทศจีน Pre-Heat Ring จัดทำโดย VeTek Semiconductor ได้รับการออกแบบมาสำหรับกระบวนการ Epitaxy การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ที่สม่ำเสมอและวัสดุกราไฟท์คุณภาพสูงเป็นวัตถุดิบช่วยให้มั่นใจได้ถึงการสะสมที่สม่ำเสมอและปรับปรุงคุณภาพและความสม่ำเสมอของชั้น epitaxis เรากำลังรอคอยที่จะสร้างความร่วมมือระยะยาวกับคุณ

อ่านเพิ่มเติม ส่งคำถาม

<...5 6 7 8 9...11 >

ในฐานะผู้ผลิตและซัพพลายเออร์ การเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ มืออาชีพในประเทศจีน เรามีโรงงานของเราเอง ไม่ว่าคุณจะต้องการบริการที่ปรับแต่งตามความต้องการเฉพาะของภูมิภาคของคุณ หรือต้องการซื้อ การเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ ที่ทันสมัยและทนทานที่ผลิตในจีน คุณสามารถฝากข้อความถึงเราได้