ตัวรับ ALD

ในฐานะที่เป็นมืออาชีพตัวรับ ALDผู้ผลิตในประเทศจีนผลิตภัณฑ์ของเราตัวรับ ALDการควบคุมอุณหภูมิที่แม่นยำ การกระจายก๊าซสม่ำเสมอ และการนำความร้อนที่ดีเยี่ยม และคุณลักษณะอื่นๆ ของผลิตภัณฑ์เป็นตัวกำหนดสิ่งนั้นตัวรับ ALDมีบทบาทสำคัญในกระบวนการสะสมชั้นอะตอม (ALD) บทบาทสำคัญ ยินดีรับคำปรึกษา

การสะสมของฟิล์มบางสม่ำเสมอ:ALD Susceptor รับประกันการสะสมของชั้นอะตอมที่สม่ำเสมอบนพื้นผิวเวเฟอร์ทั้งหมดในระหว่างกระบวนการการสะสมของชั้นอะตอม (ALD) การออกแบบแบบหมุนที่เป็นเอกลักษณ์ช่วยให้ก๊าซและสารตั้งต้นสัมผัสกับพื้นผิวเวเฟอร์ได้อย่างสม่ำเสมอ ส่งผลให้ฟิล์มมีความหนาสม่ำเสมอ นี่เป็นสิ่งสำคัญสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความแม่นยำสูง

ปรับปรุงคุณภาพการสะสม: ด้วยการปรับการควบคุมอุณหภูมิและการกระจายก๊าซให้เหมาะสม ALD Susceptor ปรับปรุงคุณภาพและประสิทธิภาพของฟิล์มได้อย่างมาก ลดข้อบกพร่องและความไม่สม่ำเสมอ ทำให้เหมาะสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่มีความแม่นยำสูง ทำให้มั่นใจในความน่าเชื่อถือและประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์

รองรับการประมวลผลแบบหลายเวเฟอร์:การออกแบบ ALD Susceptor บางแบบช่วยให้สามารถประมวลผลเวเฟอร์หลายตัวพร้อมกันได้ ซึ่งจะช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการผลิต นี่เป็นสิ่งสำคัญอย่างยิ่งสำหรับสภาพแวดล้อมการผลิตที่มีปริมาณงานสูง ซึ่งสามารถตอบสนองความต้องการของการผลิตขนาดใหญ่ได้

รองรับเวเฟอร์ขนาดและประเภทต่างๆ:ALD Susceptors โดยทั่วไปได้รับการออกแบบให้มีความเข้ากันได้สูงและสามารถรองรับเวเฟอร์ขนาดและประเภทต่างๆ ได้ ทำให้มีประสิทธิภาพในกระบวนการผลิตที่หลากหลาย โดยให้ความยืดหยุ่นและความสามารถในการปรับตัวที่มากขึ้น

ลดต้นทุนการผลิต:เนื่องจากการกระจายก๊าซที่มีประสิทธิภาพและความสามารถในการทำความร้อนที่สม่ำเสมอ ALD Susceptor จึงเพิ่มประสิทธิภาพของกระบวนการสะสม ซึ่งจะช่วยลดต้นทุนของเสียวัสดุและการผลิต สิ่งนี้ไม่เพียงแต่ช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิต แต่ยังช่วยลดต้นทุนการผลิตได้อย่างมากอีกด้วย

คุณสมบัติทางกายภาพพื้นฐานของการเคลือบ CVD SiC:

ร้านผลิต:

ภาพรวมของห่วงโซ่อุตสาหกรรม epitaxy ชิปเซมิคอนดักเตอร์：