สินค้า

สินค้า

VeTek เป็นผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายมืออาชีพในประเทศจีน โรงงานของเราจำหน่ายคาร์บอนไฟเบอร์, เซรามิกซิลิคอนคาร์ไบด์, ซิลิคอนคาร์ไบด์ Epitaxy ฯลฯ หากคุณสนใจผลิตภัณฑ์ของเรา คุณสามารถสอบถามได้ตอนนี้ แล้วเราจะติดต่อกลับโดยเร็วที่สุด
View as  
 
ตัวพาการเคลือบ CVD TaC

ตัวพาการเคลือบ CVD TaC

ตัวพาการเคลือบ CVD TaC ของ VeTek Semiconductor ได้รับการออกแบบมาเพื่อกระบวนการเอพิแทกเซียลของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เป็นหลัก จุดหลอมเหลวสูงพิเศษของตัวพาการเคลือบ CVD TaC ความต้านทานการกัดกร่อนที่ดีเยี่ยม และความเสถียรทางความร้อนที่โดดเด่นเป็นตัวกำหนดความสามารถที่ขาดไม่ได้ของผลิตภัณฑ์นี้ในกระบวนการ epitaxial ของเซมิคอนดักเตอร์ เราหวังเป็นอย่างยิ่งที่จะสร้างความสัมพันธ์ทางธุรกิจระยะยาวกับคุณ

อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม
แผ่นกั้นเคลือบ CVD SiC

แผ่นกั้นเคลือบ CVD SiC

แผ่นกั้นการเคลือบ CVD SiC ของ Vetek Semiconductor ส่วนใหญ่ใช้ใน Si Epitaxy มักใช้กับกระบอกเสริมซิลิโคน โดยผสมผสานอุณหภูมิที่สูงเป็นพิเศษและความเสถียรของแผ่นกั้นการเคลือบ CVD SiC ซึ่งปรับปรุงการกระจายการไหลเวียนของอากาศที่สม่ำเสมอในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์อย่างมาก เราเชื่อว่าผลิตภัณฑ์ของเราสามารถนำเสนอเทคโนโลยีขั้นสูงและโซลูชั่นผลิตภัณฑ์คุณภาพสูงแก่คุณได้

อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม
กระบอกสูบกราไฟท์ CVD SiC

กระบอกสูบกราไฟท์ CVD SiC

กระบอกสูบกราไฟท์ CVD SiC ของ Vetek Semiconductor มีบทบาทสำคัญในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ โดยทำหน้าที่เป็นเกราะป้องกันภายในเครื่องปฏิกรณ์เพื่อปกป้องส่วนประกอบภายในในการตั้งค่าอุณหภูมิและความดันสูง ป้องกันสารเคมีและความร้อนจัดได้อย่างมีประสิทธิภาพ โดยรักษาความสมบูรณ์ของอุปกรณ์ ด้วยความต้านทานการสึกหรอและการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยม จึงรับประกันอายุการใช้งานและความมั่นคงในสภาพแวดล้อมที่ท้าทาย การใช้ฝาครอบเหล่านี้ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ยืดอายุการใช้งาน และลดข้อกำหนดในการบำรุงรักษาและความเสี่ยงต่อความเสียหาย ยินดีต้อนรับสู่การสอบถามเรา

อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม
หัวฉีดเคลือบ CVD SiC

หัวฉีดเคลือบ CVD SiC

หัวฉีดเคลือบ CVD SiC ของ Vetek Semiconductor เป็นส่วนประกอบสำคัญที่ใช้ในกระบวนการ epitaxy LPE SiC สำหรับการสะสมวัสดุซิลิคอนคาร์ไบด์ในระหว่างการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยทั่วไปหัวฉีดเหล่านี้ทำจากวัสดุซิลิกอนคาร์ไบด์ที่มีอุณหภูมิสูงและมีความเสถียรทางเคมี เพื่อให้มั่นใจถึงความเสถียรในสภาพแวดล้อมการประมวลผลที่รุนแรง ออกแบบมาเพื่อการสะสมที่สม่ำเสมอ มีบทบาทสำคัญในการควบคุมคุณภาพและความสม่ำเสมอของชั้น epitaxis ที่ปลูกในการใช้งานเซมิคอนดักเตอร์ รอคอยที่จะร่วมมือระยะยาวกับคุณ

อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม
ตัวป้องกันการเคลือบ CVD SiC

ตัวป้องกันการเคลือบ CVD SiC

Vetek Semiconductor มีตัวป้องกันการเคลือบ CVD SiC ที่ใช้คือ LPE SiC epitaxy คำว่า "LPE" มักจะหมายถึง Low Pressure Epitaxy (LPE) ในการสะสมไอสารเคมีแรงดันต่ำ (LPCVD) ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ LPE เป็นเทคโนโลยีกระบวนการที่สำคัญสำหรับการปลูกฟิล์มบางผลึกเดี่ยว ซึ่งมักใช้ในการปลูกชั้นซิลิกอนเอพิเทเชียลหรือชั้นอีพิเทแอกเซียลของเซมิคอนดักเตอร์อื่นๆ โปรดติดต่อเราเพื่อสอบถามข้อมูลเพิ่มเติมได้เลย

อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม
ฐานเคลือบ SiC

ฐานเคลือบ SiC

Vetek Semiconductor เป็นมืออาชีพในการผลิตการเคลือบ CVD SiC, การเคลือบ TaC บนวัสดุกราไฟท์และซิลิคอนคาร์ไบด์ เรามีผลิตภัณฑ์ OEM และ ODM เช่น SiC Coated Pedestal, เวเฟอร์พาหะ, เวเฟอร์เชย, ถาดเวเฟอร์พาหะ, ดิสก์ดาวเคราะห์และอื่น ๆ ด้วยห้องคลีนรูมเกรด 1,000 และอุปกรณ์ทำให้บริสุทธิ์ เราสามารถจัดหาผลิตภัณฑ์ที่มีสารเจือปนต่ำกว่า 5ppm ให้กับคุณได้ รอคอยที่จะได้ยิน จากคุณเร็ว ๆ นี้

อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept